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Aluminiumoxynitrid-Natriumoxid-Sputtertarget

Wenn du mehr über die Aluminiumoxynitrid-Natriumoxid-Sputtertarget erfahren willst, helfen dir die folgenden Artikel. Diese Nachrichten sind die neueste Marktsituation, Entwicklungstendenz oder verwandte Tipps der Aluminiumoxynitrid-Natriumoxid-Sputtertarget Industrie. Weitere Nachrichten über Aluminiumoxynitrid-Natriumoxid-Sputtertarget werden veröffentlicht. Folgen Sie uns / kontaktieren Sie uns für weitere Aluminiumoxynitrid-Natriumoxid-Sputtertarget Informationen!
  • 03-07
    2022
    [Nachrichten] Zerstäubungsziel, warum, warum das Ziel zurückbinden soll
    Sputtering-Ziele werden hauptsächlich in der elektronischen Informationsbranche verwendet, wie in integrierter Schaltkreise, Informationsspeicher, Flüssigkristallanzeige, Laserspeicher, elektronische Steuergeräte usw. Es kann auch in Glasbeschichten, verschleißfesten Materialien, hoher Temperaturkorrosionsbeständigkeit verwendet werden, hochwertige dekorative Produkte und andere Industrien. Das Bonding bezieht sich auf das Verkleben eines Ziels an ein Rückenzielen mit Lot. weiterlesen »
  • 03-04
    2022
    [Nachrichten] Keramische Ziele-drei Hauptfaktoren, die die Eigenschaften davon betreffen
    Die Reinheit des keramischen Ziels hat einen großen Einfluss auf die Leistung des Sputterfilms. Je höher die Reinheit ist, desto besser ist die Einheitlichkeit des Zerstäubungsfilms und die Qualität der Chargenprodukte. Um ein hohes keramisches Ziel mit hoher Leistung vorzubereiten, sollten wir diese Faktoren steuern, hauptsächlich einschließlich Formenmethoden, Rohstoffgröße, Sintereffekt, heute, um die Hauptfaktoren zu analysieren, die die Leistung des Keramikziels betreffen, sind diese. weiterlesen »
  • 02-18
    2022
    [Nachrichten] Hochreiner Zerstäubungsziele für Halbleiterchips
    Das Zerstäubungsziel ist der wichtigste Faktor, um die Ausbeute an Halbleiter zu bestimmen. So auf den Halbleiter und den erforderlichen Präzisionsgrad angewendet, ist die höchste Reinheit, der Reinheitsgrad der Zerstäubungszielmaterialien und der Genauigkeit wirkt sich direkt auf die Leistung des Halbleiters aus, der Unterschied der Zerstäubungszielmaterialien ist die direkt am direkten Auswirkungen des Halbleiterkurzschlusses weiterlesen »
  • 02-03
    2022
    [Nachrichten] Was ist das Zerstäubungsziel?
    Magnetron-Zerstäubungsbeschichtung ist ein neues physisches Gasphasen-Beschichtungsverfahren, das das Elektronenpistolensystem verwenden soll, um Elektronen abzusetzen und sich auf das beschichtete Material zu fokussieren, so dass die Zerstäubungsatome dem Impuls-Umwandlungsprinzip folgen, um von dem Material mit einem hohen Kinetik wegzufliegen Energie in den Substratablagerungsfilm. Dieses plattierte Material wird als Sputterziel bezeichnet. weiterlesen »
  • 09-09
    2020
    [Nachrichten] Ein tragbares Sofortüberhitzungsmessgerät für elektrolytisches Aluminium wurde erfolgreich entwickelt
    Kürzlich wurde eine Art elektrolytisches Aluminium-Energiesparartefakt namens tragbares Vorhitz-Überhitzungs-Echtzeitmessgerät erfolgreich entwickelt. Das Messgerät wird von Beijing Core Power Technology Co., Ltd. auf der Grundlage der ursprünglichen Kristalltemperaturmessungen entwickelt weiterlesen »
  • 07-30
    2020
    [Nachrichten] Es stehen effiziente und kostengünstige Natriumbatterien zur Verfügung
    Laut einem Bericht von THE WEBSITE of Russia Today haben Wissenschaftler in Russland und Deutschland heute am 15. Juli ein neues Verfahren zur Herstellung von Natriumbatterien entwickelt. Die Natriumbatterie kann die derzeitige Verwendung von Lithiumbatterien ersetzen und hat viele Vorteile: eine signifikante Reduzierung der Herstellungskosten, lith weiterlesen »

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