Oxid-keramisches Zerstäubungsziel
- Wolframoxid (WO3)-Sputtertarget
- Hafnium-Zirkoniumoxid (HfO2/ZrO2)-Sputtertarget
- Fluordotiertes Zinnoxid (SnO2-SnF2 (90:10 Gew.-%))-Sputtertarget
- Indium-Zinn-Oxid (In2O3-SnO2 (90:10 Wt%))-Sputtertarget
- Indium-Gallium-Zinkoxid (In2O3-Ga2O3-ZnO (1:1:1 Mol%))-Sputtertarget
- Indiumoxid-Galliumoxid (In2O3-Ga2O3)-Sputtertarget
- Indiumoxid-Titanoxid (In2O3-TiO2 (91:9 Gew.-%))-Sputtertarget
- Cadmiumoxid (CdO)-Sputtertarget
- Niobpentoxid (Nb2O5)-Sputtertarget
- Germaniumoxid (GeO2)-Sputtertarget