Metalllegierungszerstäubungsziele
- Kupfer-Indium-Gallium (CuInGa)-Sputter-Target
- Sputtertarget aus Aluminium-Antimon-Legierung (AlSb)
- Titan-Aluminium-Legierung (TiAl （10:90 at%）)-Sputter-Target
- Niob-Alumnid (NbAl（90:10）)-Sputtertarget
- Kobalt-Chrom-Aluminium (CoCrAl)-Sputter-Target
- Wolfram-Chrom-Legierung (WCr)-Sputter-Target
- Kupfer-Indium-Legierung (CuIn (80:20 Gew.-%))-Sputtertarget
- Kobalt-Chrom-Legierung (CoCr (50:50 Gew.-%)) – Sputtertarget
- Wolfram-Nickel (W/Ni (90:10))-Sputter-Target
- Kobalt-Terbium-Eisen-Legierung (CoTbFe)-Sputtertarget