Die Reinheit des keramischen Ziels hat einen großen Einfluss auf die Leistung des Sputterfilms. Je höher die Reinheit ist, desto besser ist die Einheitlichkeit des Zerstäubungsfilms und die Qualität der Chargenprodukte. Um ein hohes keramisches Ziel mit hoher Leistung vorzubereiten, sollten wir diese Faktoren steuern, hauptsächlich einschließlich Formenmethoden, Rohstoffgröße, Sintereffekt, heute, um die Hauptfaktoren zu analysieren, die die Leistung des Keramikziels betreffen, sind diese.
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