Sputtering-Ziele werden hauptsächlich in der elektronischen Informationsbranche verwendet, wie in integrierter Schaltkreise, Informationsspeicher, Flüssigkristallanzeige, Laserspeicher, elektronische Steuergeräte usw. Es kann auch in Glasbeschichten, verschleißfesten Materialien, hoher Temperaturkorrosionsbeständigkeit verwendet werden, hochwertige dekorative Produkte und andere Industrien. Das Bonding bezieht sich auf das Verkleben eines Ziels an ein Rückenzielen mit Lot. weiterlesen »

Die Reinheit des keramischen Ziels hat einen großen Einfluss auf die Leistung des Sputterfilms. Je höher die Reinheit ist, desto besser ist die Einheitlichkeit des Zerstäubungsfilms und die Qualität der Chargenprodukte. Um ein hohes keramisches Ziel mit hoher Leistung vorzubereiten, sollten wir diese Faktoren steuern, hauptsächlich einschließlich Formenmethoden, Rohstoffgröße, Sintereffekt, heute, um die Hauptfaktoren zu analysieren, die die Leistung des Keramikziels betreffen, sind diese. weiterlesen »

Das Zielmaterial ist das Material des Herstellens von dünnem Film, wobei das Zielmaterial verwendet wird, das durch hochgeschwindigkeitsgeladene Partikel, durch unterschiedlichem Laser (Ionenstrahl) und unterschiedlicher Zielmaterialwechselwirkung bombardiert, um ein anderes Membransystem zu erhalten, um die Funktion der Leitung und das Blockieren zu erreichen . Daher wird das Ziel auch als \"Sputterziel\" genannt. Sein Arbeitsprinzip besteht darin, die von der Ionenquelle erzeugten Ionen zu verwenden, um im Vakuum zu sammeln und zu beschleunigen weiterlesen »

Magnetron-Zerstäubungsbeschichtung ist ein neues physisches Gasphasen-Beschichtungsverfahren, das das Elektronenpistolensystem verwenden soll, um Elektronen abzusetzen und sich auf das beschichtete Material zu fokussieren, so dass die Zerstäubungsatome dem Impuls-Umwandlungsprinzip folgen, um von dem Material mit einem hohen Kinetik wegzufliegen Energie in den Substratablagerungsfilm. Dieses plattierte Material wird als Sputterziel bezeichnet. weiterlesen »

Metalltarget Nickel, Ni, Titan, Ti, Zink, Zn, Chrom, Cr, Magnesium, Mg, Niob, Nb, Zinn, Sn, Aluminium, Al, Indium, In, Eisen, Fe, Zirconium, ZrAl, Titan-Aluminium, TIAL, Zirkonium, Zr, Aluminium-Silizium, ALSI, Silizium, Si, Kupfer, Cu, Tantal, T, A, GE, Silberziel, AG Ziel, Kobaltziel, CO-Ziel, Goldziel, AU-Ziel, Gadoliniumziel weiterlesen »

Indiumzinnoxidpulver ist eine Verbindung aus Indiumoxid und Zinnoxid, es ist nicht nur eine Mischung aus zwei Oxiden. Es wird durch chemische Copräzipitation hergestellt und weist eine große transparente Leitfähigkeit und Infrarotrelektion auf. Indiumzinnoxid hat zwei Arten von Farbaussehen, das gelbe Indiumzinnoxid und weiterlesen »

Ein Magnesium-Meerwasser-Brennstoffzellensystem, das vom Dalian Institute of Chemical Physics der Chinesischen Akademie der Wissenschaften (HEREINAFTER als \"Dalian Compounds Institute\" bezeichnet) entwickelt wurde, hat einen Seetest in einer Wassertiefe von 3.000 Metern erfolgreich abgeschlossen und den ersten realisiert praktische Anwendung von weiterlesen »