Keramische Zerstäubungsziele.
- Titan-Aluminium-Karbid (Ti3AlC2)-Sputtering-Target
- Trikobalttetroxid (Kobaltoxid) （Co3O4）-Sputtertarget
- Arsen-Tellurid (As2Te3)-Sputtertarget
- Lithium-Niob-Oxid (LiNbO3)-Sputtering-Target
- Natriumfluorid (NaF)-Sputtertarget
- Natrium-Yttrium-Fluorid (NaYF4)-Sputtertarget
- Niob-Zinn (Nb3Sn)-Sputtering-Target
- Zinnoxid-Zink (SnO2-ZnO)-Sputtering Target
- Aluminiumoxid-dotiertes Zinkoxid (AZO) (ZnO-Al2O3 （98:2 Gew.-%）)-Sputtertarget
- Aluminiumoxid - Magnesium (Al2O3 - MgO)-Sputtering Target