Tantal-Nitrid (Tan) -Cubes / Quadrate

Produktbeschreibung

Charakteristisch


Tantalnitrid (TaN) ist eine chemische Verbindung, ein Nitrid von Tantal. Es gibt mehrere Phasen von Verbindungen, stöchimetrisch von Ta2N bis Ta3N5einschließlich TaN.


Chemische Formel: TaN

Molmasse: 194,955 g / mol

Aussehen: schwarze Kristalle

Dichte: 14,3 g / cm3

Schmelzpunkt: 3.090 ° C (5.590 ° F; 3.360 K)

Löslichkeit in Wasser: unlöslich

Kristallstruktur: Sechseckig, hP6



Anwendung


Es wird manchmal bei der Herstellung integrierter Schaltkreise verwendet, um eine Diffusionsbarriere oder \"Klebeschichten\" zwischen Kupfer oder anderen leitenden Metallen zu erzeugen. Bei der BEOL-Verarbeitung (bei ca. 20 nm) wird Kupfer zuerst mit Tantal und dann mit TaN mittels physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD) beschichtet. Dieses barrierebeschichtete Kupfer wird dann durch PVD mit mehr Kupfer beschichtet und mit elektrolytisch beschichtetem Kupfer gefüllt, bevor es mechanisch verarbeitet wird.


Es findet auch Anwendung in Dünnschichtwiderständen. Es hat gegenüber Nichromwiderständen den Vorteil, einen passivierenden Oxidfilm zu bilden, der feuchtigkeitsbeständig ist.



Sicherheitsdatenblatt

Hafniumnitrid (HFN) -Powder

Tantalpentoxid (Ta2O5)-Sputtertarget

Tantalchlorid (TaCl5)-Pulver

Magnesiumnitrid (MG3N2) -Powder

TANTALUM NITRID (TAN) -SPUTTERING Ziel

Titannitrid (TiN)-Pulver