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12039-88-2
WSi2
741400PD
99,5 %
- 625 Maschen, - 200 Maschen
234-909-0
Charakteristisch
Wolframsilizid (WSi2) ist eine anorganische Verbindung, ein Silizid von Wolfram.Es ist ein elektrisch leitfähiges Keramikmaterial.
Chemische Formel: WSi2
Molmasse: 240,011 g/mol
Aussehen: blau-graue tetragonale Kristalle
Dichte: 9,3 g/cm²3
Schmelzpunkt: 2160 °C (3.920 °F; 2.430 K)
Löslichkeit in Wasser: unlöslich
Anwendung
Es wird in der Mikroelektronik als Kontaktmaterial mit einem spezifischen Widerstand von 60–80 μΩ cm verwendet;es bildet sich bei 1000 °C.Es wird oft als Shunt über Polysiliziumleitungen verwendet, um deren Leitfähigkeit zu erhöhen und die Signalgeschwindigkeit zu erhöhen.Wolframsilicidschichten können durch chemische Gasphasenabscheidung hergestellt werden, zB unter Verwendung von Monosilan oder Dichlorsilan mit Wolframhexafluorid als Quellgase.Der abgeschiedene Film ist nicht stöchiometrisch und erfordert ein Tempern, um in eine leitfähigere stöchiometrische Form umzuwandeln.Wolframsilizid ist ein Ersatz für frühere Wolframfilme.Wolframsilizid wird auch als Sperrschicht zwischen Silizium und anderen Metallen, zB Wolfram, verwendet.
Wolframsilicid ist auch für die Verwendung in mikroelektromechanischen Systemen von Wert, wo es hauptsächlich als dünne Filme zur Herstellung von Mikroschaltungen verwendet wird.Für solche Zwecke können Wolframsilicidfilme unter Verwendung von zB Stickstofftrifluoridgas plasmageätzt werden.
WSi2eignet sich gut in Anwendungen als oxidationsbeständige Beschichtungen.Insbesondere, ähnlich wie Molybdändisilizid, MoSi2, macht das hohe Emissionsvermögen von Wolframdisilicid dieses Material attraktiv für Hochtemperatur-Strahlungskühlung, mit Auswirkungen auf Hitzeschilde.
Charakteristisch
Wolframsilizid (WSi2) ist eine anorganische Verbindung, ein Silizid von Wolfram.Es ist ein elektrisch leitfähiges Keramikmaterial.
Chemische Formel: WSi2
Molmasse: 240,011 g/mol
Aussehen: blau-graue tetragonale Kristalle
Dichte: 9,3 g/cm²3
Schmelzpunkt: 2160 °C (3.920 °F; 2.430 K)
Löslichkeit in Wasser: unlöslich
Anwendung
Es wird in der Mikroelektronik als Kontaktmaterial mit einem spezifischen Widerstand von 60–80 μΩ cm verwendet;es bildet sich bei 1000 °C.Es wird oft als Shunt über Polysiliziumleitungen verwendet, um deren Leitfähigkeit zu erhöhen und die Signalgeschwindigkeit zu erhöhen.Wolframsilicidschichten können durch chemische Gasphasenabscheidung hergestellt werden, zB unter Verwendung von Monosilan oder Dichlorsilan mit Wolframhexafluorid als Quellgase.Der abgeschiedene Film ist nicht stöchiometrisch und erfordert ein Tempern, um in eine leitfähigere stöchiometrische Form umzuwandeln.Wolframsilizid ist ein Ersatz für frühere Wolframfilme.Wolframsilizid wird auch als Sperrschicht zwischen Silizium und anderen Metallen, zB Wolfram, verwendet.
Wolframsilicid ist auch für die Verwendung in mikroelektromechanischen Systemen von Wert, wo es hauptsächlich als dünne Filme zur Herstellung von Mikroschaltungen verwendet wird.Für solche Zwecke können Wolframsilicidfilme unter Verwendung von zB Stickstofftrifluoridgas plasmageätzt werden.
WSi2eignet sich gut in Anwendungen als oxidationsbeständige Beschichtungen.Insbesondere, ähnlich wie Molybdändisilizid, MoSi2, macht das hohe Emissionsvermögen von Wolframdisilicid dieses Material attraktiv für Hochtemperatur-Strahlungskühlung, mit Auswirkungen auf Hitzeschilde.
