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Tantalum Wolfram (TAW (90:10 Gew .-%)) - Rod

  • Taw (90:10 Gew .-%)

  • 737400RD.

  • 99,9% -99,99%

  • Benutzerdefiniertes Format

Verfügbarkeitsstatus:

Charakteristisch


Die Tantal-Legierung besteht aus Tantal und anderen Elementen. Der anodische Oxidationsfilm von Tantalum ist sehr stabil, Korrosionsbeständigkeit, hervorragende dielektrische Eigenschaften, die zur Herstellung von elektrolytischen Kondensatoren geeignet sind. , heiße konzentrierte Schwefelsäure und Alkali, bei 200 ℃, ist die Stabilität der TA-W-Legierung in sauren und neutralen Medium noch höher als der von Gold und Folie.


Anwendung


Das Karbid von Tantal ist ein wichtiger Additiv bei der Herstellung von Cemented Carbid.Tantalum wird auch in einigen Elektronenröhren eingesetzt. In den 1960er Jahren wurden Tantallegierungen in der Luft- und Raumfahrtindustrie als Hochtemperatur-Strukturmaterialien verwendet. Tantal- und Tantallegierungsprodukte sind Blatt, Streifen, Folie, Stange, Draht, geformte Teile und gesinterte Produkte.


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