Taw (90:10 Gew .-%)
737400ST.
99,95%
3 Zoll Dia x 0,25 Zoll th.
Verfügbarkeitsstatus: | |
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Charakteristisch
Die Tantallegierung besteht aus Tantal und anderen Elementen. Der anodische Oxidationsfilm von Tantal ist sehr stabil, korrosionsbeständig, weist hervorragende dielektrische Eigenschaften auf und eignet sich zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren. Tantal weist eine starke Beständigkeit gegen chemische Korrosion auf, mit Ausnahme von Fluorwasserstoff, Schwefeltrioxid und Flusssäure Bei heißer konzentrierter Schwefelsäure und Alkali ist die Stabilität der Ta-W-Legierung in saurem und neutralem Medium bei 200 ° C sogar noch höher als die von Gold und Folie.
Anwendung
Das Carbid von Tantal ist ein wichtiger Zusatzstoff bei der Herstellung von Hartmetall. Tantal wird auch in einigen Elektronenröhren verwendet. In den 1960er Jahren wurden Tantallegierungen in der Luft- und Raumfahrtindustrie als Hochtemperatur-Strukturmaterialien verwendet. Tantal- und Tantallegierungsprodukte sind Bleche. Streifen, Folie, Stange, Draht, Formteile und Sinterprodukte.
Charakteristisch
Die Tantallegierung besteht aus Tantal und anderen Elementen. Der anodische Oxidationsfilm von Tantal ist sehr stabil, korrosionsbeständig, weist hervorragende dielektrische Eigenschaften auf und eignet sich zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren. Tantal weist eine starke Beständigkeit gegen chemische Korrosion auf, mit Ausnahme von Fluorwasserstoff, Schwefeltrioxid und Flusssäure Bei heißer konzentrierter Schwefelsäure und Alkali ist die Stabilität der Ta-W-Legierung in saurem und neutralem Medium bei 200 ° C sogar noch höher als die von Gold und Folie.
Anwendung
Das Carbid von Tantal ist ein wichtiger Zusatzstoff bei der Herstellung von Hartmetall. Tantal wird auch in einigen Elektronenröhren verwendet. In den 1960er Jahren wurden Tantallegierungen in der Luft- und Raumfahrtindustrie als Hochtemperatur-Strukturmaterialien verwendet. Tantal- und Tantallegierungsprodukte sind Bleche. Streifen, Folie, Stange, Draht, Formteile und Sinterprodukte.