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PRODUKTDETAIL

Anteil an:

Niob-Metall (Nb)-rotierendes Sputter-Target

  • 7440-03-01
  • Nb
  • 4100RT
  • ≥99,8 %
  • Angepasst
  • 231-113-5
Verfügbarkeitsstatus:

Charakteristisch


Chemische Zusammensetzung und physikalische Eigenschaften des Produkts:

Chemische Formel: Nb

Formverfahren: Sprühen

Dichte: \" 8,5 g/cm3

Reinheit: \" 99,9%

Verunreinigungsgehalt (Einheit: PPM, Gesamtverunreinigungsgehalt ≤ 1000ppm)

Verpackungsmethode: vakuumversiegelte Verpackung, unter Verwendung von Standard-Exportholzkisten.


Anwendung


Weit verbreitet in optischem Glas, Touchscreen-AR-Filmsystem, Low-E-Glasfilmsystem

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