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Deutsch  |
7440-21-3
Si
1400SRT
≥99,9 %
Angepasst
231-130-8
Charakteristisch
Silizium ist eine wichtige Art von Sputter-Target-Materialien, die hauptsächlich im Reaktionssystem der Magnetron-Sputter-Beschichtung von SiO2 und einer dielektrischen SiN-Schicht verwendet werden andere Eigenschaften in der Optik, Mikroelektronik und anderen Bereichen haben eine breite Anwendungsperspektive und funktionelle Materialien finden breite internationale Aufmerksamkeit.
Im Allgemeinen können Silizium-Targets in einkristalline und polykristalline Typen unterteilt werden.
Anwendung
Wird zur Herstellung von SiO2/Si3N4-Filmen verwendet, die hauptsächlich für optisches Glas, AR-Filmsystem für Touchscreens, Low-E-beschichtetes Glas, Halbleiterelektronik, Flachbildschirme, Touchscreens verwendet werden.
Charakteristisch
Silizium ist eine wichtige Art von Sputter-Target-Materialien, die hauptsächlich im Reaktionssystem der Magnetron-Sputter-Beschichtung von SiO2 und einer dielektrischen SiN-Schicht verwendet werden andere Eigenschaften in der Optik, Mikroelektronik und anderen Bereichen haben eine breite Anwendungsperspektive und funktionelle Materialien finden breite internationale Aufmerksamkeit.
Im Allgemeinen können Silizium-Targets in einkristalline und polykristalline Typen unterteilt werden.
Anwendung
Wird zur Herstellung von SiO2/Si3N4-Filmen verwendet, die hauptsächlich für optisches Glas, AR-Filmsystem für Touchscreens, Low-E-beschichtetes Glas, Halbleiterelektronik, Flachbildschirme, Touchscreens verwendet werden.
