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Aluminium-Metall (Al)-Rotations-Sputter-Target

  • 7429-90-5

  • Al

  • 1300RT

  • 99,99%-99,9999%

  • Angepasst

  • 231-072-3

Verfügbarkeitsstatus:

Charakteristisch


Chemische Zusammensetzung und physikalische Eigenschaften des Produkts:

Chemische Formel: Al

Formverfahren: Sprühen

Dichte: \" 2,6 g/cm3

Reinheit: \" 99,9%

Verunreinigungsgehalt (Einheit: PPM, Gesamtverunreinigungsgehalt ≤ 1000ppm)


Anwendung


Hauptsächlich verwendet für Oberflächendekoration und funktionale Beschichtungs- und Aufdampfmaterialien, Halbleiterelektronik, TFT, Flachbildschirme.

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