Vanadium-Metall (V)-Rotary Sputtering Target

Produktbeschreibung

Charakteristisch


Unser Unternehmen verarbeitet und verkauft alle Arten von hochreinem Vanadium-Barren, Vanadium-Draht, Vanadium-Target und großen Vanadium-Röhren-Targets, Vanadium-Pulver und anderen Produkten. Der Preis ist angemessen und die Qualität ist stabil.


Gemeinsame Spezifikation (Länge * Breite * Höhe)

D125,D152*L D105*16 D100*40

Korngröße: <100μm

Dichte: 6.11g/cm3


Anwendung


Hauptsächlich verwendet in Autoteilen, dekorativen Beschichtungen, Autospiegelbeschichtungen, Druckguss, elektronischen Komponenten, Magnetaufzeichnungsspeicher.

Sicherheitsdatenblatt

Kupfermetall (Cu)-rotierendes Sputtertarget

Indiummetall (In)-Rotations-Sputtering-Target

Nickel-Chrom-Legierung (NiCr) – rotierendes Sputtertarget

Niobiumoxid (Nbox) -spray-Drehzerstäubungsziel

Titanoxid (TIOX) -SPRAY-Drehzerstäubungsziel