Titansilicid (TiSi2)-Pulver

Produktbeschreibung

Charakteristisch


Titandisilizid (TiSi2) ist eine anorganische chemische Verbindung.


Chemische Formel: TiSi2

Molmasse: 104,038 g/mol

Aussehen: schwarze orthorhombische Kristalle

Dichte: 4,02 g/cm3

Schmelzpunkt: 1.470 °C (2.680 °F; 1.740 K)

Löslichkeit in Wasser: unlöslich

Löslichkeit: löslich in HF



Anwendung


Titansilicid wird in der Halbleiterindustrie verwendet.Es wird typischerweise mittels Salizidtechnologie über Silizium- und Polysiliziumleitungen aufgewachsen, um den Schichtwiderstand lokaler Transistorverbindungen zu reduzieren.In der mikroelektronischen Industrie wird es typischerweise in der C54-Phase verwendet.


Sicherheitsdatenblatt

Magnesiumsilicid (Mg2Si)-Sputtertarget

Magnesiumsilicid (Mg2Si)-Pellets

Silizium-Germanium-Legierung (SiGe)-Sputtering-Target

Titanhydrid (TiH2)-Pulver

Titanoxid (Ti4O7)-Sputtertarget

Titaniodid (TII4) -Powder