Niob-Metall (Nb)-rotierendes Sputter-Target

Produktbeschreibung

Charakteristisch


Chemische Zusammensetzung und physikalische Eigenschaften des Produkts:

Chemische Formel: Nb

Formverfahren: Sprühen

Dichte: \" 8,5 g/cm3

Reinheit: \" 99,9%

Verunreinigungsgehalt (Einheit: PPM, Gesamtverunreinigungsgehalt ≤ 1000ppm)

Verpackungsmethode: vakuumversiegelte Verpackung, unter Verwendung von Standard-Exportholzkisten.


Anwendung


Weit verbreitet in optischem Glas, Touchscreen-AR-Filmsystem, Low-E-Glasfilmsystem

Sicherheitsdatenblatt

Molybdän-Metall (Mo)-Rotary Sputtering Target

Kupfermetall (Cu)-rotierendes Sputtertarget

Indiummetall (In)-Rotations-Sputtering-Target

Nickel-Chrom-Legierung (NiCr) – rotierendes Sputtertarget

Silizium (Si)-Sprüh-Rotations-Sputter-Target

Niobiumoxid (Nbox) -spray-Drehzerstäubungsziel