Molybdän Kupfer (Mocu (95: 5 in%)) - Zerstäubungsziel

Produktbeschreibung

Funcmater ist spezialisiert auf die Herstellung von hochwertigen Sputtertargets, Keramiktargets und Metalltargets. Die Produkte werden mit verschiedenen Methoden (Magnetronsputtern, Vakuumbeschichten usw.) auf verschiedene Bereiche der Vakuumbeschichtung aufgebracht: Wissenschaftliche Forschung, Luft- und Raumfahrt, Automobilindustrie, Mikroelektronik, Industrie für integrierte Schaltkreise, Lichtquelle, Optik, Dekoration, Flachbildschirmindustrie, Information Speicherindustrie, Datenspeicherung und so weiter.


1. Metallziel

Nickel-Ziel, Titan-Ziel, Zink-Ziel, Chrom-Ziel, Magnesium-Ziel, Niob-Ziel, Zinn-Ziel, Aluminium-Ziel, Indium-Ziel, Eisen-Ziel, Zirkonium-Ziel, Silizium-Ziel, Kupfer-Ziel, Tantal-Ziel, Germanium-Ziel, Silber-Ziel , Gadolinium-Target, Lanthan-Target, Yttrium-Target, Cer-Target, Hafnium-Target, Molybdän-Target, Wolfram-Target, Edelstahl-Target, Zirkonium-Aluminium-Target, Nickel-Eisen-Target, Titan-Aluminium-Target, Nickel-Chrom-Target, Kupfer-Indium-Gallium-Selen-Target, Aluminium-Silizium Ziel, Zink-Aliminum-Ziel usw.


2. Keramikmaterial Target

ITO-Ziel, AZO-Ziel, IGZO-Ziel, Magnesiumoxid-Ziel, Yttriumoxid-Ziel, Eisenoxid-Ziel, Nickeloxid-Ziel, Chromoxid-Ziel, Zinkoxid-Ziel, Zinksulfid-Ziel, Cadmiumsulfid-Ziel, Molybdänsulfid-Ziel, Siliziumdioxid-Ziel, Silizium Monoxid-Target, Ceroxid-Target, Zirkoniumdioxid-Target, Niob-Pentoxid-Target, Titandioxid-Target, Molybdändisulfid-Target, Hafniumdioxid-Target, Titandiborid-Target, Zirkonium-Diborid-Target, Wolframtrioxid-Target, Aluminiumtrioxid-Target, Tantal-Pentoxid-Target, Aluminiumtrioxid-Target , Yttriumfluorid-Target, Zinkselenid-Target, Aluminiumnitrid-Target, Siliziumnitrid-Target, Bornitrid-Target, Titannitrid-Target, Siliciumcarbid-Target, Lithium-Niobat-Target, Praseodym-Titanat-Target, Bariumtitanat-Target, Lanthan-Titanat-Target usw.


3. Legierungsmaterial Target

Titan Aluminium Ti-Al, Aluminiumsilikat Al-Si, Aluminium Titan Al-Ti, Silber Kupfer Ag-Cu, Aluminium Magnesium Al-Mg, Kobalt Eisen Bor Co-Fe-B, Kupfer Indium Gallium Cu-In-Ga, Ferrimangan Fe -Mn, Indiumzinn-In-Sn, Kobalt-Eisen-Co-Fe, Nickel-Kobalt-Ni-Co, Nickel-Eisen-Ni-Fe, Nickel-Chrom-Ni-Cr, Nickel-Zirkonium-Ni-Zr, Nickel-Aluminium-Ni-Al, Nickel-Kupfer-Ni-Cu , Nickel-Vanadium-Ni-V, Titan-Wolfram-Ti-W, Zink-Aluminium-Zn-Al, Aluminium-Titan-Bor-Al-Ti-B, Aluminium-Vanadium-Al-V, Aluminium-Scandium-Al-Sc, Kupfer-Zinn-Cu-Sn, Zirkonium-Aluminium-Zr- Al, Bor Eisen usw.


Wolfram-Titan (WTi (90:10 Gew.-%))-Sputtering-Target

Tantalum Wolfram (TAW (90:10 Gew .-%)) - Rod

Aluminium-Chrom-Legierung (AlCr)-Pellets

Aluminium-Magnesium-Legierung (AlMg)-Pellets

Eisen-Mangan-Legierung (FEMN) -Sputing-Ziel