Aluminium-Metall (Al)-Rotations-Sputter-Target
Produktbeschreibung
Charakteristisch
Chemische Zusammensetzung und physikalische Eigenschaften des Produkts:
Chemische Formel: Al
Formverfahren: Sprühen
Dichte: \" 2,6 g/cm3
Reinheit: \" 99,9%
Verunreinigungsgehalt (Einheit: PPM, Gesamtverunreinigungsgehalt ≤ 1000ppm)
Anwendung
Hauptsächlich verwendet für Oberflächendekoration und funktionale Beschichtungs- und Aufdampfmaterialien, Halbleiterelektronik, TFT, Flachbildschirme.