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Charakteristisch
Siliziummonoxid ist eine anorganische Verbindung, seine chemische Formel ist SiO, ist bei normaler Temperatur und Druck schwarzbraun bis lössfarben amorphes Pulver, unlöslich in Wasser, kann sich in verdünnter Flusssäure und Salpetersäure-Mischsäure auflösen und beim Erhitzen Siliziumtetrafluorid freisetzen die Luft, um weißes Siliziumdioxidpulver herzustellen. Siliziummonoxid ist instabil und oxidiert in der Luft zu Siliziumdioxid.
Chemische Formel: SiO
Molmasse: 44,08 g/mol
Aussehen: braun-schwarzer glasiger Feststoff
Dichte: 2,13 g/cm3
Schmelzpunkt: 1.702 ° C (3.096 ° F; 1.975 K)
Siedepunkt: 1.880 °C (3.420 °F; 2.150 K)
Löslichkeit in Wasser: unlöslich
Anwendung
Aufgrund seiner hohen Aktivität kann Siliziummonoxidpulver als Rohmaterial für die Feinkeramiksynthese verwendet werden, wie etwa Siliziumnitrid- und Siliziumcarbid-Feinkeramikpulver.Herstellung von optischem Glas und Halbleitermaterialien.
Es wird im Vakuum aufgedampft und als Schutzfilm auf eine metallische Spiegelfläche für optische Instrumente aufgetragen.Herstellung von Halbleitermaterialien.
Charakteristisch
Siliziummonoxid ist eine anorganische Verbindung, seine chemische Formel ist SiO, ist bei normaler Temperatur und Druck schwarzbraun bis lössfarben amorphes Pulver, unlöslich in Wasser, kann sich in verdünnter Flusssäure und Salpetersäure-Mischsäure auflösen und beim Erhitzen Siliziumtetrafluorid freisetzen die Luft, um weißes Siliziumdioxidpulver herzustellen. Siliziummonoxid ist instabil und oxidiert in der Luft zu Siliziumdioxid.
Chemische Formel: SiO
Molmasse: 44,08 g/mol
Aussehen: braun-schwarzer glasiger Feststoff
Dichte: 2,13 g/cm3
Schmelzpunkt: 1.702 ° C (3.096 ° F; 1.975 K)
Siedepunkt: 1.880 °C (3.420 °F; 2.150 K)
Löslichkeit in Wasser: unlöslich
Anwendung
Aufgrund seiner hohen Aktivität kann Siliziummonoxidpulver als Rohmaterial für die Feinkeramiksynthese verwendet werden, wie etwa Siliziumnitrid- und Siliziumcarbid-Feinkeramikpulver.Herstellung von optischem Glas und Halbleitermaterialien.
Es wird im Vakuum aufgedampft und als Schutzfilm auf eine metallische Spiegelfläche für optische Instrumente aufgetragen.Herstellung von Halbleitermaterialien.
