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12055-23-1.
HFO2.
720800rd.
99.995%
10 mm Dia x 10 cm Länge
235-013-2.
Charakteristisch
Hafnium (IV) oxid ist die anorganische Verbindung mit der Formel HfO2. Dieser farblose Feststoff, auch als Hafnie bekannt, ist eine der häufigsten und stabilsten Verbindungen von Hafnium. Es ist ein elektrischer Isolator mit einer Bandlücke von 5,3 ~ 5,7 eV. Hafniumdioxid ist ein Zwischenprodukt in einigen Prozessen, die Hafniummetall ergeben.
Chemische Formel: HfO2
Molmasse: 210,49 g / mol
Aussehen: cremefarbenes Pulver
Dichte: 9,68 g / cm3, solide
Schmelzpunkt: 2.758 ° C (4.996 ° F; 3.031 K)
Siedepunkt: 5.400 ° C (9.750 ° F; 5.670 K)
Löslichkeit in Wasser: unlöslich
Magnetische Suszeptibilität (χ): - 23,0 · 10−6cm3/ mol
Anwendung
Hafnia wird in optischen Beschichtungen und als Hoch-κ-Dielektrikum in DRAM-Kondensatoren und in fortschrittlichen Metalloxid-Halbleiterbauelementen verwendet.
In den letzten Jahren hat Hafniumoxid (sowie dotiertes und sauerstoffarmes Hafniumoxid) zusätzliches Interesse als möglicher Kandidat für resistivschaltende Speicher und CMOS-kompatible ferroelektrische Feldeffekttransistoren (FeFET-Speicher) und Speicherchips auf sich gezogen.
Aufgrund seines sehr hohen Schmelzpunktes wird Hafnia auch als feuerfestes Material bei der Isolierung von Geräten wie Thermoelementen verwendet, wo es bei Temperaturen bis zu 2500 ° C betrieben werden kann.
Mehrschichtige Filme aus Hafniumdioxid, Siliciumdioxid und anderen Materialien wurden zur Verwendung bei der passiven Kühlung von Gebäuden entwickelt. Die Filme reflektieren Sonnenlicht und strahlen Wärme bei Wellenlängen ab, die durch die Erdatmosphäre verlaufen. Unter den gleichen Bedingungen können die Temperaturen um mehrere Grad kühler sein als bei umgebenden Materialien.
Charakteristisch
Hafnium (IV) oxid ist die anorganische Verbindung mit der Formel HfO2. Dieser farblose Feststoff, auch als Hafnie bekannt, ist eine der häufigsten und stabilsten Verbindungen von Hafnium. Es ist ein elektrischer Isolator mit einer Bandlücke von 5,3 ~ 5,7 eV. Hafniumdioxid ist ein Zwischenprodukt in einigen Prozessen, die Hafniummetall ergeben.
Chemische Formel: HfO2
Molmasse: 210,49 g / mol
Aussehen: cremefarbenes Pulver
Dichte: 9,68 g / cm3, solide
Schmelzpunkt: 2.758 ° C (4.996 ° F; 3.031 K)
Siedepunkt: 5.400 ° C (9.750 ° F; 5.670 K)
Löslichkeit in Wasser: unlöslich
Magnetische Suszeptibilität (χ): - 23,0 · 10−6cm3/ mol
Anwendung
Hafnia wird in optischen Beschichtungen und als Hoch-κ-Dielektrikum in DRAM-Kondensatoren und in fortschrittlichen Metalloxid-Halbleiterbauelementen verwendet.
In den letzten Jahren hat Hafniumoxid (sowie dotiertes und sauerstoffarmes Hafniumoxid) zusätzliches Interesse als möglicher Kandidat für resistivschaltende Speicher und CMOS-kompatible ferroelektrische Feldeffekttransistoren (FeFET-Speicher) und Speicherchips auf sich gezogen.
Aufgrund seines sehr hohen Schmelzpunktes wird Hafnia auch als feuerfestes Material bei der Isolierung von Geräten wie Thermoelementen verwendet, wo es bei Temperaturen bis zu 2500 ° C betrieben werden kann.
Mehrschichtige Filme aus Hafniumdioxid, Siliciumdioxid und anderen Materialien wurden zur Verwendung bei der passiven Kühlung von Gebäuden entwickelt. Die Filme reflektieren Sonnenlicht und strahlen Wärme bei Wellenlängen ab, die durch die Erdatmosphäre verlaufen. Unter den gleichen Bedingungen können die Temperaturen um mehrere Grad kühler sein als bei umgebenden Materialien.
