Das Metallsputterziel

Entwicklungstrend vonTarget-Technologie

Hochreines Metall-Zerstäubungszielmaterial wird hauptsächlich in der Waferherstellung und im erweiterten Verpackungsprozess verwendet. Mit der Chip-Fertigung Als Beispiel können wir sehen, dass von einem Silizium-Chip bis zu einem Chip sieben Produktionsprozesse, nämlich Diffusion (Thermoprozess), Photolithographie (Ätz), Ionenimplantation (I) -Antplant), dielektrische Abscheidung, chemisches mechanisches Polieren (Cmp), metallisierung, jede Verbindung muss in dem Prozess der \"Metallisierung \", die einem nacheinander entspricht Ziel und dann eine spezifische Funktion der Metallschicht auf dem Siliziumchip, wie beispielsweise leitfähiger Schicht, Sperrschicht usw.

Der Entwicklungstrend der Zerstäubungszieltechnologie ist eng mit der technologischen Innovation im stromabwärtigen Anwendungsfeld verbunden. Mit dem technologischen Fortschritt des Anwendungsmarktes in dünnen Filmprodukten oder -komponenten muss das Zerstäubungsziel auch entsprechend ändert.

In den nachgeschalteten Anwendungsfeldern hat die Halbleiterindustrie die höchsten Qualitätsanforderungen an Zerstäubungsziel und Sputterfilm. Mit der Herstellung von Siliziumwafern mit größerer Größe ist das Zerstäubungsziel auch erforderlich, um sich in Richtung größerer Größe zu entwickeln. Gleichzeitig setzt es auch höhere Anforderungen an die Kontrolle des Zerstäubungszielkorns.

Die Reinheit des Sputterfilms ist eng mit der Reinheit des Zerstäubungsziels verbunden. Um den Bedürfnissen einer höheren Präzisions- und feineren Micron-Halbleitertechnologie zu erfüllen, nimmt die Reinheit des Zerstäubungsziels zu und erreicht sogar 99,9999% (6n) Reinheit.

Zielmaterialien als strategische, aufstrebende Industrie, um sich auf die Förderung der Entwicklung zu konzentrieren, und erlassene Industriepolitik, \"der 13. Fünfjahresplan\", vorgeschlagen, dass bis 2020 die Selbstverteilungsrate der Haupt- und Schlüsselmaterialien, um mehr als 70% zu erreichen Die erste Realisierung der strategischen Umwandlung Chinas von einem materiellen Land auf ein materielles Macht. Unter dem aktuellen wirtschaftlichen Hintergrund werden inländische Zielmaterialien große Fortschritte erzielen.