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HfO2/ZrO2
7208400800ST
99,9%
3 Zoll Durchmesser x 0,125 Zoll d.
Funkmaterspezialisiert auf Produktehochwertiges Sputtertarget, Keramiktarget, Metalltarget.Die Produkte werden mit verschiedenen Methoden auf verschiedene Bereiche der Vakuumbeschichtung angewendet (Magnetron-Sputtern, Vakuumbeschichtung usw.): Wissenschaftliche Forschung, Luft- und Raumfahrt, Automobil, Mikroelektronik, Industrie für integrierte Schaltkreise, Lichtquelle, Optik, Dekoration, Flachbildschirmindustrie, Information Speicherindustrie, Datenspeicherung und so weiter.
1. Metallziel
Nickel-Target, Titan-Target, Zink-Target, Chrom-Target, Magnesium-Target, Niob-Target, Zinn-Target, Aluminium-Target, Indium-Target, Eisen-Target, Zirkonium-Target, Silizium-Target, Kupfer-Target, Tantal-Target, Germanium-Target, Silber-Target, Gold-Target , Gadolinium-Target, Lanthan-Target, Yttrium-Target, Cerium-Target, Hafnium-Target, Molybdän-Target, Wolfram-Target, Edelstahl-Target, Zirkonium-Aluminium-Target, Nickel-Eisen-Target, Titan-Aluminium-Target, Nickel-Chrom-Target, Kupfer-Indium-Gallium-Selen-Target, Aluminium Silizium Ziel, Zink-Aluminium-Ziel usw.
2. Keramikmaterial Ziel
ITO-Target, AZO-Target, IGZO-Target, Magnesiumoxid-Target, Yttriumoxid-Target, Eisenoxid-Target, Nickeloxid-Target, Chromoxid-Target, Zinkoxid-Target, Zinksulfid-Target, Cadmiumsulfid-Target, Molybdänsulfid-Target, Siliziumdioxid-Target, Silizium Monoxid-Target, Ceroxid-Target, Zirkoniumdioxid-Target, Niob-Pentoxid-Target, Titandioxid-Target, Molybdändisulfid-Target, Hafniumdioxid-Target, Titandiborid-Target, Zirkoniumdiborid-Target, Wolframtrioxid-Target, Aluminiumtrioxid-Target, Tantalpentoxid-Target, Magnesiumfluorid-Target , Yttriumfluorid-Target, Zinkselenid-Target, Aluminiumnitrid-Target, Siliziumnitrid-Target, Bornitrid-Target, Titannitrid-Target, Siliziumkarbid-Target, Lithium-Niobat-Target, Praseodym-Titanat-Target, Bariumtitanat-Target, Lanthantitanat-Target usw.
3. Legierungsmaterial Ziel
Titan Aluminium Ti-Al, Aluminiumsilikat Al-Si, Aluminium Titan Al-Ti, Silber Kupfer Ag-Cu, Aluminium Magnesium Al-Mg, Kobalt Eisen Bor Co-Fe-B, Kupfer Indium Gallium Cu-In-Ga, Ferrimanganic Fe -Mn, Indium-Zinn-In-Sn, Kobalt-Eisen-Co-Fe, Nickel-Kobalt-Ni-Co, Nickel-Eisen-Ni-Fe, Nickel-Chrom-Ni-Cr, Nickel-Zirkonium-Ni-Zr, Nickel-Aluminium-Ni-Al, Nickel-Kupfer-Ni-Cu , Nickel Vanadium Ni-V, Titan Wolfram Ti-W, Zink Aluminium Zn-Al, Aluminium Titan Bor Al-Ti-B, Aluminium Vanadium Al-V, Aluminium Scandium Al-Sc, Kupfer Zinn Cu-Sn, Zirkonium Aluminium Zr- Al, Boreisen usw.
Funkmaterspezialisiert auf Produktehochwertiges Sputtertarget, Keramiktarget, Metalltarget.Die Produkte werden mit verschiedenen Methoden auf verschiedene Bereiche der Vakuumbeschichtung angewendet (Magnetron-Sputtern, Vakuumbeschichtung usw.): Wissenschaftliche Forschung, Luft- und Raumfahrt, Automobil, Mikroelektronik, Industrie für integrierte Schaltkreise, Lichtquelle, Optik, Dekoration, Flachbildschirmindustrie, Information Speicherindustrie, Datenspeicherung und so weiter.
1. Metallziel
Nickel-Target, Titan-Target, Zink-Target, Chrom-Target, Magnesium-Target, Niob-Target, Zinn-Target, Aluminium-Target, Indium-Target, Eisen-Target, Zirkonium-Target, Silizium-Target, Kupfer-Target, Tantal-Target, Germanium-Target, Silber-Target, Gold-Target , Gadolinium-Target, Lanthan-Target, Yttrium-Target, Cerium-Target, Hafnium-Target, Molybdän-Target, Wolfram-Target, Edelstahl-Target, Zirkonium-Aluminium-Target, Nickel-Eisen-Target, Titan-Aluminium-Target, Nickel-Chrom-Target, Kupfer-Indium-Gallium-Selen-Target, Aluminium Silizium Ziel, Zink-Aluminium-Ziel usw.
2. Keramikmaterial Ziel
ITO-Target, AZO-Target, IGZO-Target, Magnesiumoxid-Target, Yttriumoxid-Target, Eisenoxid-Target, Nickeloxid-Target, Chromoxid-Target, Zinkoxid-Target, Zinksulfid-Target, Cadmiumsulfid-Target, Molybdänsulfid-Target, Siliziumdioxid-Target, Silizium Monoxid-Target, Ceroxid-Target, Zirkoniumdioxid-Target, Niob-Pentoxid-Target, Titandioxid-Target, Molybdändisulfid-Target, Hafniumdioxid-Target, Titandiborid-Target, Zirkoniumdiborid-Target, Wolframtrioxid-Target, Aluminiumtrioxid-Target, Tantalpentoxid-Target, Magnesiumfluorid-Target , Yttriumfluorid-Target, Zinkselenid-Target, Aluminiumnitrid-Target, Siliziumnitrid-Target, Bornitrid-Target, Titannitrid-Target, Siliziumkarbid-Target, Lithium-Niobat-Target, Praseodym-Titanat-Target, Bariumtitanat-Target, Lanthantitanat-Target usw.
3. Legierungsmaterial Ziel
Titan Aluminium Ti-Al, Aluminiumsilikat Al-Si, Aluminium Titan Al-Ti, Silber Kupfer Ag-Cu, Aluminium Magnesium Al-Mg, Kobalt Eisen Bor Co-Fe-B, Kupfer Indium Gallium Cu-In-Ga, Ferrimanganic Fe -Mn, Indium-Zinn-In-Sn, Kobalt-Eisen-Co-Fe, Nickel-Kobalt-Ni-Co, Nickel-Eisen-Ni-Fe, Nickel-Chrom-Ni-Cr, Nickel-Zirkonium-Ni-Zr, Nickel-Aluminium-Ni-Al, Nickel-Kupfer-Ni-Cu , Nickel Vanadium Ni-V, Titan Wolfram Ti-W, Zink Aluminium Zn-Al, Aluminium Titan Bor Al-Ti-B, Aluminium Vanadium Al-V, Aluminium Scandium Al-Sc, Kupfer Zinn Cu-Sn, Zirkonium Aluminium Zr- Al, Boreisen usw.
